南大光電：隨著國內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展 ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期

南大光電發(fā)布消息，稱該公司 ArF 光刻膠產(chǎn)品拿到小批量訂單。在 5 月 31 日，江蘇南大光電材料股份有限公司公告稱，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品，再次通過了客戶認(rèn)證，其具備 55nm 平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求。

IT之家了解到，ArF 光刻膠材料是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至 7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。此前我國國產(chǎn)光刻膠主要集中在中低端產(chǎn)品，但是用于精密工藝的 ArF 光刻膠一直以來被國外廠商壟斷。

根據(jù)南大光電此前公告，ArF 光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期。隨著國內(nèi) IC 行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新 和國產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量(作者：信鴿)

關(guān)鍵詞： 南大光電 IC 行業(yè) 光刻膠 市場(chǎng)

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