南大光電：隨著國內IC行業的快速發展 ArF光刻膠的市場前景好于預期

南大光電發布消息，稱該公司 ArF 光刻膠產品拿到小批量訂單。在 5 月 31 日，江蘇南大光電材料股份有限公司公告稱，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發的 ArF 光刻膠產品，再次通過了客戶認證，其具備 55nm 平臺后段金屬布線層的工藝要求。

IT之家了解到，ArF 光刻膠材料是半導體制造的關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至 7nm技術節點的集成電路制造工藝。此前我國國產光刻膠主要集中在中低端產品，但是用于精密工藝的 ArF 光刻膠一直以來被國外廠商壟斷。

根據南大光電此前公告，ArF 光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內 IC 行業的快速發展，自主創新 和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量(作者：信鴿)

關鍵詞： 南大光電 IC 行業 光刻膠 市場

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